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技術(shù)文章/ article
更新時(shí)間：2024-04-13 
瀏覽次數(shù)：246監(jiān)測控制生產(chǎn)過程中移動薄膜厚度。高達(dá)100 Hz的采樣率可以在多個測量位置得到
F30 光譜反射率系統(tǒng)能實(shí)時(shí)測量沉積率、沉積層厚度、光學(xué)常數(shù) (n 和 k 值) 和半導(dǎo)體以及
電介質(zhì)層的均勻性。
分子束外延和金屬有機(jī)化學(xué)氣相沉積: 可以測量平滑和半透明的，或輕度吸收的薄膜。 這實(shí)
際上包括從氮化鎵鋁到鎵銦磷砷的任何半導(dǎo)體材料。
極大地提高生產(chǎn)力
低成本 —幾個月就能收回成本
A精確 — 測量精度高于 ±1%
快速 — 幾秒鐘完成測量
非侵入式 — 完的全的沉積室以外進(jìn)行測試
易于使用 — 直觀的 Windows™ 軟件
幾分鐘就能準(zhǔn)備好的系統(tǒng)
型號 | 厚度范圍* | 波長范圍 |
|---|---|---|
| F30 | 15nm-70µm | 380-1050nm |
| F30-EXR | 15nm - 250µm | 380-1700nm |
| F30-NIR | 100nm - 250µm | 950-1700nm |
| F30-UV | 3nm-40µm | 190-1100nm |
| F30-UVX | 3nm - 250µm | 190-1700nm |
| F30-XT | 0.2µm - 450µm | 1440-1690nm |
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