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更新時間：2024-09-05 
瀏覽次數(shù)：443深度剖析紫外線臭氧清洗機裝置
一、概述
該裝置是一種UV臭氧清洗機，可以對各種半導體工藝進行干燥處理?？梢赃M行有機物去除和表面改性，例如光刻膠灰化以及硅和藍寶石晶圓清洗。配備紫外線燈、臭氧發(fā)生器和加熱臺，紫外線照射、臭氧和熱量之間的相互作用可以實現(xiàn)高效的清潔和表面改性，而不會對基材造成電氣損壞。
二、特征
1.由于同時使用紫外線 (UV)、高濃度臭氧 (O?) 和載物臺加熱器的熱量，因此可以實現(xiàn)高效清潔。
2.離子或電子不會對元件造成損壞。
3.由于配備了使用非貴金屬催化劑的臭氧分解器，因此不需要臭氧處理設(shè)備。
4.由于大氣壓處理，不需要真空系統(tǒng)。
5.一鍵即可實現(xiàn)自動操作。
三、應(yīng)用實例
1.光刻膠灰化、圓盤
2.親水處理
3.硅、化合物半導體、晶體、ITO薄膜、透鏡等的清洗。
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