Sanko-Denshi(三光電機)是一家知的名的日本公司，專注于生產各種精密測量儀器，其中包括膜厚計。Sanko-Denshi的膜厚計SWT-NEO是一款用于測量薄膜厚度的高精度儀器，廣泛應用于電子、半導體、光學、材料科學等領域。以下是關于Sanko-Denshi膜厚計SWT-NEO的詳細介紹：
一、產品概述
品牌：Sanko-Denshi(三光電機)
型號：SWT-NEO
類型：光學膜厚測量儀
用途：用于測量各種薄膜的厚度，包括透明薄膜、金屬薄膜、半導體薄膜等。
二、工作原理
光學干涉法：SWT-NEO采用光學干涉原理進行膜厚測量。通過發(fā)射一束激光到薄膜表面，反射光和透射光之間會發(fā)生干涉現(xiàn)象。通過分析干涉條紋的變化，可以精確計算出薄膜的厚度。
高精度測量：該方法具有高精度和高分辨率，能夠測量納米級厚度的薄膜。
三、功能特點
高精度測量：能夠測量納米級厚度的薄膜，測量精度可達亞納米級別。
非接觸式測量：采用光學測量方法，無需接觸樣品，避免對樣品造成損傷。
多種測量模式：支持多種測量模式，包括單點測量、多點測量和掃描測量。
實時數(shù)據(jù)分析：儀器內置數(shù)據(jù)分析軟件，能夠實時顯示測量結果，并提供多種數(shù)據(jù)處理功能。
多種測量范圍：適用于不同厚度范圍的薄膜測量，從納米級到微米級。
用戶友好界面：配備大屏幕液晶顯示屏，操作界面直觀易用。
數(shù)據(jù)存儲與輸出：可以存儲大量測量數(shù)據(jù)，并通過USB接口將數(shù)據(jù)傳輸?shù)接嬎銠C進行進一步分析。
多種語言支持：支持多種語言顯示，包括英語、日語、中文等。
四、技術規(guī)格
測量范圍：納米級至微米級(具體范圍取決于薄膜材料和測量條件)。
測量精度：亞納米級別。
測量速度：快速測量，適合高通量檢測。
光源：激光光源，波長可根據(jù)測量需求選擇。
測量模式：單點測量、多點測量、掃描測量。
數(shù)據(jù)存儲：可存儲大量測量數(shù)據(jù)。
數(shù)據(jù)輸出：USB接口，支持數(shù)據(jù)傳輸?shù)接嬎銠C。
電源：交流電源適配器。
尺寸：緊湊型設計，便于實驗室和現(xiàn)場使用。
重量：輕便，便于攜帶。
五、應用領域
半導體行業(yè)：用于測量半導體薄膜的厚度，如硅片上的氧化層、金屬層等。
電子行業(yè)：用于測量電子元件上的薄膜厚度，如電容、電阻等。
光學行業(yè)：用于測量光學薄膜的厚度，如反射膜、增透膜等。
材料科學：用于研究新型薄膜材料的厚度和性能。
科研領域：用于實驗室研究和開發(fā)中的薄膜厚度測量。
六、操作步驟
準備樣品：將待測樣品放置在測量平臺上，確保樣品表面平整。
開機：連接電源并打開儀器，進行自檢和初始化。
設置參數(shù)：根據(jù)樣品的性質和測量需求，設置測量模式、光源波長等參數(shù)。
開始測量：將激光對準樣品表面，按下測量鍵，儀器自動進行測量。
讀取結果：測量完成后，儀器會顯示薄膜的厚度和相關數(shù)據(jù)。
數(shù)據(jù)存儲與輸出：將測量結果存儲到儀器中，或通過USB接口傳輸?shù)接嬎銠C進行進一步分析。
七、優(yōu)勢
高精度：采用光學干涉法，測量精度高，重復性好。
非接觸式測量：無需接觸樣品，避免對樣品造成損傷。
多功能：支持多種測量模式和數(shù)據(jù)處理功能，滿足不同用戶的需求。
便攜性：體積小、重量輕，便于攜帶和現(xiàn)場使用。
操作簡便：界面友好，操作簡單，易于上手。
實時數(shù)據(jù)分析：內置數(shù)據(jù)分析軟件，能夠實時顯示測量結果并提供多種數(shù)據(jù)處理功能。
八、附件
標準配件：主機、測量平臺、電源適配器、USB數(shù)據(jù)線、使用說明書等。
可選配件：專用軟件、校準片等。
九、維護與保養(yǎng)
清潔：定期清潔光學鏡頭和測量平臺，避免灰塵和污漬影響測量結果。
校準：定期使用標準校準片進行校準，確保儀器測量準確。
存儲：存放于干燥、清潔的環(huán)境中，避免高溫、潮濕和強磁場。
Sanko-Denshi膜厚計SWT-NEO以其高精度、非接觸式測量和多功能性，成為薄膜厚度測量的理想工具，廣泛應用于半導體、電子、光學和材料科學等領域。
更新時間：2025-03-19 
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